当社は斬新な発想で日々可能性にチャレンジしています。
一見すると無理だと思えることも、「本当に無理なのか？」
一つの角度ではなく、色々な角度からものごとを考えると、思いもよらなかった解決策が出ることがあります。

私たちは、型にはまらないアイデアと、あきらめない工夫を凝らし、加熱冷却装置の開発、製造を通じて、未来を切り拓きたいと思っています。
お気軽にお問い合わせください。

◇写真1枚目
「ハイスピードホットプレート」の主な仕様
・最高温度 ：1000℃
・高速昇温常用：1000℃/3分
・最高昇温ﾚｰﾄ：２５０℃/分
・オーバーシュート：設定温度の1％以内
・雰囲気ガス：Ａｉｒ、Ｎ２　Ｈ２　真空　その他
・温度制御：電流出力連続ＰＩＤ制御
・赤外線波長：約５μピーク
・耐熱衝撃：石英と同等品
・両面加熱：対応済み
・標準寸法：８インチ対応、12インチ対応、角基板対応

◇写真2枚
「ＬＰＣＶＤ装置」の説明
炭化ガスを加熱分解し、発生期のカーボンを製品に積層させます。
ガス系を変える事により、様々な用途に適応します。
真空圧制御は、ポンプをインバーターでダイレクトに制御されており、 ＥＰＣを使わないアイデアです。